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第828章 弯道超车＆总要有人做（第1页）

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身为“过来人”，洛川清楚的知道，14~18年，是国内半导体产业，追赶国际先进水平绝佳窗口期！

技术层面。

当前euv技术，尚未完全成熟，全球半导体，仍处于“duv向euv过渡”的阶段。

若中芯能坚持研发先进制程，在极光和星光的辅助下，完全有机会在1516年前后，掌握“类finfet”技术，稳住与三星、台积电的技术代差。

虽说，由于euv光刻机的缺失，在14nm以下的制程，仍不可避免会被拉开差距。

但那至少也是四五年以后的事情了。

届时，中芯应该也已积累了，足够的“duv多重曝光”关键技术。

如高精度对准系统、高k金属栅极沉积工艺等等。

只要技术

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